半導體(ti)硅片(pian)廢(fei)(fei)水(shui)處理工藝是(shi)一個復雜的(de)過程，涉及到多種技術和(he)方法(fa)。主要目的(de)是(shi)去除廢(fei)(fei)水(shui)中的(de)污染物，使(shi)其(qi)達到排(pai)放標準或回用標準。

一、半(ban)導體硅片(pian)廢水來(lai)源及特點

半導體硅片廢水主要來源于硅片表(biao)面(mian)清(qing)洗、蝕刻(ke)、去(qu)磷硅玻璃清(qing)洗等工序，以及設備(bei)清(qing)洗和(he)試驗過程中。廢水成分復雜，含(han)有多種化學物(wu)質如氫(qing)(qing)氟酸(suan)(HF)、硝酸(suan)(HNO3)、硫酸(suan)(H2SO4)、氫(qing)(qing)氧化鈉(NaOH)、有機溶劑(ji)以及重金屬離(li)子等。這些廢水通常具有污染物(wu)濃度(du)高、生物(wu)降(jiang)解性差、水質波動(dong)大等特點。

二、半導體(ti)硅片(pian)廢水處理方法

1.HUBF水(shui)解(jie)酸化+HFST好氧工(gong)(gong)藝(yi)：這是一(yi)種常用的(de)廢水(shui)處(chu)(chu)(chu)理工(gong)(gong)藝(yi)，涉(she)及到鋼(gang)制罐(guan)體的(de)使用。這種工(gong)(gong)藝(yi)能夠有(you)效地(di)處(chu)(chu)(chu)理半(ban)導體硅片生產過程中產生的(de)廢水(shui)，包括前端物化預(yu)處(chu)(chu)(chu)理、末端氣浮(fu)及置換(huan)等步驟。此外，鋼(gang)罐(guan)內(nei)部聚脲防腐也(ye)是該工(gong)(gong)藝(yi)的(de)一(yi)部分，以(yi)確保處(chu)(chu)(chu)理系統的(de)長期穩定運(yun)行。

2.超純水(shui)（UPW）的使用(yong)：在半導(dao)體(ti)制造過(guo)程中(zhong)，超純水(shui)被用(yong)于制造不含任何雜(za)質的半導(dao)體(ti)。使用(yong)過(guo)的廢水(shui)必(bi)須經過(guo)處(chu)理后才能正確排放或再生(sheng)。SK海力(li)士等公司(si)在水(shui)資(zi)源管理方面(mian)采取了嚴格(ge)的措施，包括(kuo)活性(xing)炭、總磷去(qu)除設備等，以深(shen)度處(chu)理廢水(shui)。

3.廢水(shui)的(de)分類處理(li)：半導體廢水(shui)通常包括含銅、鎳、錫等重(zhong)金屬廢水(shui)，含氟離子廢水(shui)以及由研磨硅(gui)片產生的(de)廢水(shui)。這些廢水(shui)需(xu)要通過特定的(de)處理(li)工序來減少(shao)污水(shui)排(pai)放(fang)，降低廢水(shui)處理(li)系統的(de)成本，并實現水(shui)資源的(de)循(xun)環利用。

4.物(wu)(wu)(wu)理(li)、化學和(he)生物(wu)(wu)(wu)處(chu)理(li)：半導(dao)體硅片行業(ye)廣泛采(cai)用(yong)(yong)物(wu)(wu)(wu)理(li)、化學和(he)生物(wu)(wu)(wu)處(chu)理(li)工藝來減少(shao)廢水(shui)排放對環(huan)境的(de)影(ying)響。物(wu)(wu)(wu)理(li)處(chu)理(li)包括(kuo)沉淀、過濾、蒸(zheng)發濃縮等(deng)；化學處(chu)理(li)涉及使用(yong)(yong)化學品來去除或中和(he)廢水(shui)中的(de)污染物(wu)(wu)(wu)；生物(wu)(wu)(wu)處(chu)理(li)則利用(yong)(yong)微生物(wu)(wu)(wu)來分解有(you)機物(wu)(wu)(wu)質。

5.廢(fei)氣(qi)和廢(fei)水(shui)的(de)(de)結合處(chu)理(li)：提供(gong)了(le)針(zhen)對半導體行業(ye)需求定制的(de)(de)全(quan)面產(chan)品組合，包(bao)括在廢(fei)氣(qi)起始點直接處(chu)理(li)廢(fei)氣(qi)的(de)(de)系統(tong)，以(yi)及處(chu)理(li)濕(shi)法工(gong)藝過程產(chan)生(sheng)的(de)(de)廢(fei)水(shui)。這些系統(tong)可以(yi)清(qing)(qing)除(chu)廢(fei)氣(qi)中的(de)(de)有害物(wu)質，并從廢(fei)水(shui)中清(qing)(qing)除(chu)氟化物(wu)、銨和有機物(wu)質。

6.先進制程廢(fei)水(shui)(shui)(shui)處理技術：隨著半導體制造進入更先進的制程，如28納米制程，廢(fei)水(shui)(shui)(shui)處理技術也需要相應升級以(yi)滿(man)足更嚴(yan)格的排放(fang)規則。這包括對廢(fei)水(shui)(shui)(shui)排放(fang)的影響(xiang)進行(xing)評估，以(yi)及對廢(fei)水(shui)(shui)(shui)處理系統進行(xing)改進。

7.水資源(yuan)的(de)循環利用(yong)(yong)：還有的(de)公司通過持續的(de)技(ji)術升級(ji)和工藝改(gai)進，為半導體企業提供了更優質、可靠(kao)的(de)水處(chu)(chu)理(li)解(jie)決方(fang)案(an)，實現了廢水處(chu)(chu)理(li)和水資源(yuan)再(zai)利用(yong)(yong)水平(ping)的(de)提升。

這些工(gong)藝和技術的(de)結合，使得半(ban)導體硅片(pian)廢水處理能夠達到環(huan)保標準，同(tong)時(shi)實現資源的(de)循環(huan)利(li)用。